Nettoyage de reservoirs - Import export

Générateur vapeur industriel triphasé à 10 bar de pression, carrosserie tubulaire en acier inox avec imperméabilité IPX5 avec système de recharge automatique, injection de détergent et d’eau surchauffée. Régulateur de pression 6/10 bar. Console électronique de commande avec manomètre, compte-heures et avis « CALC » pour le nettoyage de la chaudière. Fonctionnement sur réservoir autonome ou par connexion au réseau d’eau fixe.

Série 569 ■ Auto-rotative ■ Puissants jets plats Applications Nettoyage des équipements suivants : ■ Machines ■ Installations ■ Réservoirs / cuves Par ex. : industries des boissons, agroalimentaires et chimiques. Diamètre max. de réservoir : Rinçage : 5.0 m Nettoyage : 3.0 m Pression de service : 1.0 - 2.5 bar Température max. : 140 °C Installation : Fonctionnement possible dans toutes les positions ; A l’horizontal, la rotation démarre à 2 bar. Matière : Acier inoxydable 316L PEEK et Rulon 641 Rotation : Double roulement à billes en acier inoxydable Filtration : Filtre en ligne (env.0.1 mm/Mesh 170)

La vanne à membrane DN 10 servo-commandée, fermée par la montée du flotteur, est conçue pour le contrôle de niveau en réservoirs. En cas de baisse du niveau, la vanne à flotteur s'ouvre automatiquement et proportionnellement afin de maintenir constant le niveau de remplissage. Si le niveau dans le réservoir et le flotteur montent, le débit du fluide est réduit proportionnellement au bras du flotteur. Ainsi le débordement, causé par un débit trop fort lors du remplissage initial, peut être évité. Il s'agit d'une vanne à une chambre avec passage droit du fluide. Plusieurs raccordements de corps sont possibles. La vanne convient à l'eau chaude jusqu'à 60°C grâce à son corps en polyamide renforcé fibre de verre et au flotteur en PE. APPLICATIONS Remplissage de réservoirs Nettoyage haute pression (séparation de système selon EN 1717) Installations de lavage Systèmes d'irrigation Machines à glace Appareils industriels CARACTÉRISTIQUES comportement proportionnel (Kv dépendant de la positio