Technologie de Détection RF

DÉTECTEUR RF NON INVASIF À FIXATION RAPIDE OFFRANT UNE DÉTECTION D'ARC À HAUTE VITESSE DANS iPVD, PECVD ET ÉTCHAGE Réduction des pertes de wafers et amélioration des rendements Les arcs pendant le traitement plasma peuvent entraîner des dommages au cible et à la chambre, ce qui conduit à des dommages au substrat et à la création de particules. À mesure que les tailles de caractéristiques diminuent, les dispositifs microélectroniques deviennent de plus en plus sensibles aux dommages induits par les arcs. Des arcs peuvent se produire dans tout processus assisté par plasma tel que le dépôt physique en phase vapeur ionisé (iPVD), le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) et l'étchage. Le détecteur d'arc Sion d'INFICON fournit une première ligne de défense cruciale. Sion permet de détecter rapidement les micro-arcs et d'y réagir avant que des dommages significatifs ou des déchets ne se produisent. Le système offre une détection et une analyse en temps réel des événements de micro-arcs plasma.