Allemagne
Fabricant/ Producteur
La sté CreaPhys GmbH, société dérivée de l'Institut de photophysique appliquée de l'université technique de Dresde, est membre du groupe MBRAUN depuis la mi-2016. CreaPhys est constituée de scientifiques et d'ingénieurs ayant une grande expérience dans les domaines de la technologie des couches minces sous vide, de la purification des matériaux pour les substances moléculaires organiques et de l'optoélectronique. Un savoir-faire global et des expériences de longue date dans les domaines de la technique de revêtement sous vide, la purification de substances moléculaires organiques ainsi que la production de composants optoélectroniques organiques constituent la base du développement d'installations et de systèmes sur mesure ainsi que de processus et de technologies spécifiques aux clients. Les applications typiques se situent dans les domaines des composants optoélectroniques organiques pour l'affichage et l'éclairage (OLED), les cellules solaires organiques (OPV) et les capteurs, mais aussi la recherche fondamentale appliquée en optoélectronique organique.
SAS T2I
France
Ø 13 - 17 - 19 ou 25 mm Galvanisé ou phospaté Matière : Acier ou Inox
Demander un devisSAS T2I
France
Pliage et formage à froid Tube de Ø 5 à 6 mm épaisseur 0.7 mm Fil de Ø 5 à 6 mm Traitement de surface suivant besoin et/ou CDC
Demander un devisSAS T2I
France
Pliage et formage à froid - Ø 6.95 à 7.25 mm Polissage et dégraissage Traitement thermique suivant CDC client Traitement de surface, différentes finition et tenue brouillard salin suivant CDC
Demander un devisSURCOTEC SA
Suisse
L’ALD (Atomic Layer Deposition en anglais, ou dépôt de couches atomiques en français) est un procédé de dépôts qui permet de déposer sous vide des films minces de matière grâce à des précurseurs gazeux. Les pièces à traiter sont placées dans une machine sous vide. Après avoir introduit un précurseur A qui se dépose sur toute la surface des pièces à traiter, un précurseur B est introduit et réagit avec les premiers atomes déposés pour former une première couche atomique. Ce cycle est reproduit jusqu’à obtenir l’épaisseur désirée. La température de dépôt est comprise entre 150 et 200°. Les avantages Conformabilité parfaite Excellente homogénéité sur pièces 3D Reproductibilité du revêtement Maîtrise de l’épaisseur à l’échelle du nanomètre Bonne stabilité chimique Excellente couche barrière Technologie non polluante
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